微纳金属光学舆情布局制备技能及应用

邱克强, 徐向东, 刘颖 等. 软X射线位相型金透射光栅的计划与建造［J］. 物理学报, 2008, 57(10): 6329～6334

柳龙华, 刘刚, 熊瑛 等. 大高宽比、高线密度X射线透射光栅的建造［J］. 光学周密工程, 2009, 17(1): 72～77

【23】Zhou Hongjun, Zhong Pengfei, Huo Tonglin et al.. Cleaning of carbon contamination on Si wafer with activated oxygen by synchrotron radiation［J］. Acta Optica Sinica, 2010, 30(3): 907～910

【15】李海亮,史丽娜,牛洁斌,王冠亚,谢常青. 大高宽比硬X射线波带片建造及聚焦测试. 光学 周密工程, 2017, 25(11): 2803-2809

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马杰, 谢常青, 叶甜春 等. 自支撑透射光栅的计划、建造和测试［J］. 物理学报, 2010, 59(4): 2564～2567

【11】司新春,唐燕,胡松,刘俊伯,程依光,胡淘,周毅,邓钦元. 基于复合光栅的大范畴高精度瞄准步伐. 光学学报, 2016, 36(1): 105003--1

【21】Changqing Xie, Xiaoli Zhu, Lina Shi et al.. Spiral photon sieves apodized by digital prolate spheroidal window for the generation of hard-X-ray vortex［J］. Opt. Lett., 2010, 35(11): 1765～1767

【13】Li Mujun, Shen Lianguan, Zhao Wei et al.. Analysis of effective wave-front affecting diffraction field in proximity lithography［J］. Acta Optica Sinica, 2010, 30(2): 525～530

【10】卢增雄,齐月静,齐威,苏佳妮,彭卓君. 纳米精度波像差检测随机点源阵列照明优化阐明. 光学学报, 2015, 35(6): 612007--1

【1】王君,金春水,王丽萍,郭本银,喻波. 极紫外光刻投影物镜中多层膜阐明模子的成立及应用. 光学学报, 2014, 34(8): 811002--1

马杰, 曹磊峰, 谢常青 等. 带支撑布局的大高宽比硬X 射线波带片建造［J］. 光电工程, 2009, 36(10): 30～34

【28】Wang Yanbin, Tang Yongjian, Zhu Xiaoli et al.. Fabrication of micro-column array filled with CH for ICF target［J］. Atomic Energy Science and Technology, 2011, 45(4): 452～455

【12】Robert (Bob) Selzer, John Heaton. Using X-ray lithography to make sub 100 nm MMICs ［J］. Microelectronic Engineering, 2000, 53(1-4): 591～594

陈宝钦：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技能研究室, 北京 100029中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技能重点尝试室, 北京 100029
朱效立：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技能研究室, 北京 100029中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技能重点尝试室, 北京 100029

【18】Jin Feifei, Zhu Xiaoli, Li Hailiang et al.. Study on properties of 2000 lp/mm X-ray transmission varied line-space gratings［J］. Acta Optica Sinica, 2010, 30(6): 1857～1860

【6】Tian Feng, Yang Guoguang, Bai Jian et al.. Direct writing of submicron lines using the micro- and nanofiber pens［J］. Acta Optica Sinica, 2010, 30(1): 206～209

胡媛：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技能研究室, 北京 100029中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技能重点尝试室, 北京 100029

【27】Ma Jie, Cao Leifeng, Xie Changqing et al.. Fabrication of high aspect-ratio-hard X-ray zone plates with supporting structures［J］. Opto-Electronic Engineering, 2009, 36(10): 30～34

【1】Li Chunfei. Strategical thinking on development of micro- and nano-photonics［J］. Laser & Optoelectronics Progress, 2009, 46(10): 15～21
李海亮：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技能研究室, 北京 100029中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技能重点尝试室, 北京 100029

【16】陈忠贇,方淦,曹良成,付芸,曹洪忠,姜肇国,段宣明. 飞秒激光光镊直写银微纳布局. 中国激光, 2018, 45(4): 402006--1

刘明：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技能研究室, 北京 100029中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技能重点尝试室, 北京 100029

谢常青,朱效立,牛洁斌,李海亮,刘明,陈宝钦,胡媛,史丽娜. 微纳金属光学布局制备技能及应用[J]. 光学学报, 2011, 31(9): 0900128

【13】刘舵,强鹏飞,李林森,刘哲,盛勤苦,刘永安,赵宝升. 多层嵌套式X射线聚焦光学器件. 光学学报, 2016, 36(8): 834002--1

DOI：10.3788/aos201131.0900128

微纳光学布局制备技能历来是微纳光子学器件希望的技能瓶颈。针对微纳光学布局制备技能向小尺寸、高精度和普及应用希望的趋势，报道了基于电子束、X射线和靠近式光学的殽杂光刻建造微纳金属光学布局技能。针对微纳光子学器件巨大图形开辟了微光刻数据处理赏罚体系，基于矢量扫描电子束光刻装备在自支撑薄膜上进行1×高判别率图形形成，操作X射线光刻进行高高宽比微纳图形复制，舆情网，再操作低本钱靠近式光学光刻技能进行金属增强筋建造。还报道了自支撑X射线金光栅衍射效率和抗振测试成就。

被引环境

周洪军, 钟鹏飞, 霍同林 等. 同步辐射活化氧洗濯碳污染的研究［J］. 光学学报, 2010, 30(3): 907～910

【24】Chuanke Wang, Longyu Kuang, Zhebin Wang et al.. Phase-type quantum-dot-array diffraction grating [J]. Rev. Sci. Instrum., 2008, 79(12): 123502

【32】Zhu Weizhong, Wu Yanqing, Guo Zhi et al.. The design, fabrication and performance of a large area 10000 line/mm metal transmission diffraction gratings for soft X-ray［J］. Acta Physica Sinica, 2008, 57(10): 6386～6392

【8】Weilun Chao, Jihoon Kim, Senajith Rekawa et al.. Demonstration of 12 nm resolution Fresnel zone plate lens based soft X-ray microscopy［J］. Opt. Express, 2009, 17(20): 17669～17677